去除表面污染物對于所有工藝都是必不可少的：在這些工藝中，必須以某種方式對受污染的表面進行改性，以便進行后續(xù)處理，例如薄膜沉積、粘合或表面圖案化。

因為表面的有機和無機污染物通常會導致粘合不牢固，甚至影響粘合的耐久性，導致粘合產品失效。濕洗和干洗是在各種工業(yè)應用中去除表面污染物的成熟工藝。

許多傳統(tǒng)上用于濕式清潔的溶劑對環(huán)境有害，例如 HCFC，其使用越來越受到限制并被淘汰。

因此，人們一直在努力尋找其他方法來代替溶劑清洗法。激光、微研磨、等離子、紫外線-臭氧（UV-O3）、固態(tài)氣體顆粒或軟雪（CO2、Ar-N2）、靜電、水冰晶、微納米粒子束等干洗方式，以及高速噴氣式飛機已經開發(fā)出來并已商業(yè)化。在這些技術中，UV-O3 是將表面有機污染物去除到接近原子水平的有效方法。與其他干法表面處理技術相比，UV-O3處理的明顯優(yōu)勢是可以在常壓下操作，因此設備和運行成本相對較低。

特別是，包含質子、電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)物質的復雜混合物的氣體等離子體（氧、氫等離子體）可以產生顯著的發(fā)射效應。相比之下，由于不存在高能粒子，UV-O3 清潔比氧等離子體更溫和，這意味著 UV-O3 清潔方法可以在各種應用中形成對基于氧或氫等離子體的傳統(tǒng)去污技術的有效替代。